ASML готовит литографию нового поколения — Hyper NA через 10 лет уменьшит элементы чипов более чем на треть

Преемник самой передовой технологии ASML для производства микросхем может появиться примерно через десять лет — на смену High NA EUV придёт Hyper NA EUV. Об этом написали в рецензируемой статье инженеры нидерландской компании, а также сотрудники поставляющей ей оптику фирмы Carl Zeiss. Источник изображений: asml.com